很多芯片产品，28纳米能够满足自己的需求。因此在半导体制造业界仍然占据了很大的一块市场份额。

这也是给了国内芯片制造留了一个保命符。所以当复兴半导体造出28纳米的光刻机时，国家直接发放了100亿的补助。

甚至水淼的云华手机，使用自产28纳米芯片，就可以大大减少代工需求的比例，从而降低中低端手机的成本。

到这一步，水淼甚至已经达到国内领先水平了，但他觉得这才刚刚开始攀登呢，他要站在山顶才行。

“……很抱歉打扰大家的雅兴，我知道大家都在为28纳米的成功而欢呼庆祝。但我不得不说，同志们，我们需要进入14纳米时代，实在不好意思，在大家刚进入28纳米时代，就急着让大家继续奔跑，但是前方风景更好……”

水淼现在朝着14纳米的制程推进了，理论上来说28纳米的光刻机，在双倍曝光的基础下，也能够光刻14纳米的芯片，但是次品率会大大增加，非常的得不偿失。

而14纳米光刻机，就目前来说是高端的技术。双倍曝光的情况下，它可以光刻7纳米制程的芯片，甚至还可以四倍曝光……。

一旦14纳米光刻机的出现，这就完全不一样了。可以说，整个芯片行业都会发生翻天覆地的变化。

当前，水淼被光刻机的镜头难住了。光刻机的光源要经过多次反射，每次反射都会增加误差，这就要求镜面的平整度极高，必须比光刻尺度还要低上1000倍。目前能达到这种水平的只有汉斯国的蔡司。

但是现在，国内就是因为镜头不过关，始终卡在28纳米无法推进。

“或许可以在镜片镀膜机上着手……”

花了三个月，水淼看着放在工作台上大大小小的镜头，这些东西就是他这三个月的成果，通过设备检测它表面的光滑度发现甚至超过了母本光刻机，这让所有人对14纳米的光刻机成功有了更好的期待。

“试试吧。”

果然功夫不负有心人，最终的芯片达到了14纳米，一时间，众人都陷入癫狂，他们成功了！

到这个程度，华国甚至可以宣布，华国目前的芯片已经达到世界顶尖水平，但要达到自产自足，则需要将光刻机从研发阶段推入生产化。

一台光刻机里面，有足足十几二十万的零部件，全靠复兴半导体一家企业来做的话，那得搞到猴年马月去。

放着华国这么完整的产业链不用，反倒自己去搓每个螺丝，不但浪费国内这么好资源和基础，更是闭门造车吃独食的表现。

而能用本国的产业链，来完成一台光刻机的所有零件制造，全球有且只有一个国家才有可能做到，那就是华国！

因此，水淼作为总负责人，向各位领导汇报工作的时候也详细说明了这个情况。

目前最重要的就是根据研发团队给出的每个零件的数据，对全华国相关企业进行公开招标。

领导同意了，由水淼以光刻机研发组总工程师的身份全权负责此事。

或者换一句话理解，这场公开招标就是一场全国工业大摸底！